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[发明专利]一种刻蚀液及刻蚀方法-CN202110938767.9在审
发明人：杨晖;李坤锋;王念慈;张亮;王晨;白城镇 -专利权人：合肥本源量子计算科技有限责任公司
申请日： 2021-08-16 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C23F1/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种刻蚀液及刻蚀方法，所述刻蚀液由用于浸蚀金属氧化物的酸溶液、酸性缓冲溶液、用于氧化表层金属的酸溶液组成，本发明通过采用用于浸蚀金属氧化物的酸溶液、酸性缓冲溶液、用于氧化表层金属的酸溶液配置酸性刻蚀液，可在超导量子芯片加工过程中，用于刻蚀由铝膜构成的超导层，即便在流片过程中，光刻胶层未显影的区域发生了不希望的曝光，曝光区域的光刻胶层发生光解反应生成不与酸性溶液发生反应的物质，该物质覆盖在超导层上，不与本申请的刻蚀液反应，因而本申请刻蚀液不会侵蚀溶解该物质，从而使超导层不与刻蚀液相接处，从而避免在蚀刻过程中，超导层在光刻胶未显影的区域被蚀刻出坑点，大大提高了良品率。
一种刻蚀方法

[发明专利]一种快速高效处置废刻蚀液的技术方法-CN201910511006.8在审
发明人：吴东亮;吴卫林;胡长江;项艳;郭鹏飞;余端;王振宇;洪骏 -专利权人：安徽浩悦环境科技有限责任公司
申请日： 2019-06-13 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： B09B3/00 文献下载
摘要：本发明属于废水处理技术领域，具体涉及一种快速高效处置废刻蚀液的方法，废刻蚀液Ⅰ、废刻蚀液Ⅱ与含铬废物联合处理；所述废刻蚀液Ⅰ为浓硫酸和双氧水的混合废液；废刻蚀液Ⅱ为高浓度双氧水废液。采用上述方法，利用废刻蚀液Ⅰ的强酸性和废刻蚀液Ⅱ中的高浓度双氧水的弱还原性，将含铬废物中以六价铬形式存在的铬酸根(酸性条件下具强氧化性)还原成三价铬，实现高效反应，以废治废，且产物对环境无二次污染。
刻蚀液双氧水含铬废物废水处理技术无二次污染高效反应混合废液联合处理强氧化性酸性条件以废治废铬酸根还原性六价铬浓硫酸强酸性废液还原

[发明专利]一种FOP表面微坑镀膜的致密性检测方法-CN201811638191.9在审
发明人：李文涛;陈子天;郭素 -专利权人：赛纳生物科技（北京）有限公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： G01N23/22 文献下载
摘要：本发明提供一种FOP表面微坑镀膜的致密性检测方法；将镀膜的FOP放入酸性刻蚀液中刻蚀；检测刻蚀穿孔。这种镀膜的检测方法可以筛选合适的应用于基因测序的FOP基片，消除本身元素的影响。本发明利用酸性刻蚀液，满足一定的条件的情况下，检测镀膜的致密性。
镀膜致密性检测酸性刻蚀液刻蚀微坑基因测序穿孔放入筛选应用

[发明专利]一种CVD石墨烯生长衬底铜箔酸性刻蚀液-CN201811383246.6有效
发明人：茅丹;张洪涛;刘海滨;张娟娟;谭化兵;季恒星 -专利权人：无锡格菲电子薄膜科技有限公司
申请日： 2018-11-20 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种CVD石墨烯生长衬底铜箔酸性刻蚀液，包括：过氧化氢、无机酸、表面活性剂、螯合掺杂剂。过氧化氢和无机酸共同作用刻蚀铜箔，螯合掺杂剂与铜离子作用形成络合物并溶于水中，表面活性剂将异物、杂质去除。所述酸性刻蚀液还包括刻蚀稳定剂，刻蚀稳定剂能有效抑制过氧化氢的过快分解。所述刻蚀液能在短时间内将铜箔进行刻蚀，得到方阻均匀性较好的石墨烯。
一种 cvd 石墨生长衬底铜箔酸性刻蚀

[发明专利]一种线路板生产时产生的酸、碱性刻蚀液的联产工艺-CN201910034666.1在审
发明人：沈祖达 -专利权人：沈祖达
申请日： 2019-01-15 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： C01C1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种线路板生产时产生的酸、碱性刻蚀液的联产工艺，包括以下步骤：1）碱性刻蚀液通过碱性刻蚀液入口进入到第一蒸发锅中，加热蒸发出氨气；2）第一蒸发锅中余料经过第一排出管道排出后，通过压滤器后第一蒸发锅中压滤后残留的氧化铜通过第二排出管道进入到氯化铜合成锅中；3）在第二蒸发锅中通过酸性刻蚀液入口加入酸性刻蚀液，蒸发出气体；4）第二蒸发锅中的母液通过第三排出管道进入到碱式碳酸铜和成锅中，在热的条件下通过纯碱入口加入纯碱，生成碱式碳酸铜并通过碱式碳酸铜排出管排出本发明将酸性刻蚀液与碱性刻蚀液采用联产工艺，生产出工业级氨水、氧化铜、氯化铜和碱式碳酸铜，并且废水中不含氨氮而达标排放。
碱性刻蚀液蒸发锅碱式碳酸铜酸性刻蚀液联产工艺排出管道线路板生产纯碱氯化铜氧化铜排出氨气工业级氨水达标排放排出管压滤器氨氮母液余料中压加热蒸发残留废水合成生产

[发明专利]铜回收法-CN00804514.3无效
发明人： R·帕乔利克;G·利德默 -专利权人：梅舍控股公司
申请日： 2000-01-14 - 公布日： 2002-03-27 - 主分类号： C23F1/46 文献下载
摘要：本发明涉及一种从刻蚀过程中的碱性刻蚀液回收铜的方法,该过程中,镀铜的印刷电路板用碱性刻蚀液刻蚀,然后用水清洗,而铜用一种有机溶液萃取除去,铜又从该有机溶液被再萃取到一种酸性溶液中。将所述酸性溶液输入回收铜的操作,例如电解中,但在所述铜回收前分流出液流,将其中的铜含量调节到低于用于铜回收的酸性溶液的铜含量值,并将其用于印刷电路板的电镀。
回收

[实用新型]一种盖板、湿法刻蚀槽和湿法刻蚀设备-CN201120516758.2有效
发明人：周伯柱;郑载润;吴代吾;王世凯;訾玉宝;张洪波;耿军;刘剑钊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2011-12-12 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种盖板、湿法刻蚀槽和湿法刻蚀设备，其中包括：上盖板和下盖板，所述上盖板和下盖板对合设置。本实用新型提供的盖板、湿法刻蚀槽和湿法刻蚀设备，将酸雾通过下盖板的通孔和上盖板的排气管口抽离，避免酸雾在上盖板和下盖板的表面凝结成酸性液滴而掉落到基板上，防止酸性液滴对基板刻蚀的影响，使对基板的刻蚀更均匀
一种盖板湿法刻蚀设备

[发明专利]一种黑硅制备方法、制绒机及采用该制备方法制成的黑硅-CN201610929502.1在审
发明人：张淋;郑严严;韩方亚 -专利权人：苏州宝馨科技实业股份有限公司
申请日： 2016-10-31 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种黑硅制备方法、制绒机及采用该制备方法制成的黑硅，所述方法包括如下步骤：S1、将硅片用腐蚀液进行刻蚀制绒；S2、将刻蚀后的硅片用酸性溶液进行酸性刻蚀；S3、将酸性刻蚀后的硅片用碱性溶液进行碱性刻蚀；S4、将碱性刻蚀后的硅片用酸性溶液再次进行酸性刻蚀。
一种制备方法制绒机采用制成

[发明专利]一种由酸性刻蚀废液制备高比容量负极材料的方法-CN201710432042.6有效
发明人：杨军;徐程浩;杨德建;白涛 -专利权人：成都程德化工科技有限责任公司
申请日： 2017-06-09 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： H01M4/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种由酸性刻蚀废液制备高比容量负极材料的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)、在酸性刻蚀废液鼓入空气或氧气，同时添加OH^‑溶液反应，得到FeOx前驱体悬浮液，反应时控制酸性刻蚀废液的pH值为3～4；(2)、停止鼓气，调整酸性刻蚀废液的pH值为6.2～7，加入还原性导电含碳物和OH^‑溶液，反应后固液分离得Cu@FeOx材料前驱体；(3)、将Cu@FeOx材料前驱体干燥后本发明能够实现酸性废液中铁、铜阳离子回收进而制备高比容量铁负极Cu@FeOx材料，并废液零排放的目标。
一种酸性刻蚀废液制备容量负极材料方法

[发明专利]一种精密线路的酸性刻蚀液添加剂和酸性刻蚀液及其应用-CN202310771136.1在审
发明人：石宗武;周健;许航 -专利权人：深圳市点石源水处理技术有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种精密线路的酸性刻蚀液添加剂和酸性刻蚀液及其应用，涉及刻蚀技术领域。添加剂包括以下质量分数的组分：高分子成膜剂：1wt％‑10wt％；润湿分散剂：5wt％‑15wt％；水：余量。本发明添加剂在酸性刻蚀液中利用高分子成膜，与铜离子形成络合物附着在铜表面，联合性更强，线路间的底铜受流体扰动大容易破裂进而使得底铜被蚀刻液溶解，而吸附在线路侧壁上的膜由于受流体扰动较小，可以保护侧壁的铜
一种精密线路酸性刻蚀添加剂及其应用

[发明专利]一种酸性含铜刻蚀液处理方法及系统-CN202010660864.1在审
发明人：康传海;沈彦志;牟凯丽;初沙沙;张磊;董超;高雨晴 -专利权人：山东东顺环保科技有限公司
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： C02F9/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种酸性含铜刻蚀液处理方法，包括以下步骤：(1)将酸性含铜刻蚀液调节pH为0.08～0.12，加入氧化剂氧化酸性含铜刻蚀液中的铜为二价铜离子，得到混合体系A；(2)向所述混合体系A中加入碱调节混合体系中的二价铜离子转化为氢氧化铜沉淀；(3)用硫酸溶液溶解步骤(2)得到的固体沉淀得到混合体系B；(4)将混合体系B进行结晶，得到固态硫酸铜；(5)将步骤(4)中混合体系B结晶后产生的废水进行三效蒸发脱盐处理得到冷凝液和结晶盐本发明的方法实现了酸性含铜刻蚀液的达标排放处理，并且转化为了硫酸铜产品，既解决了环境问题而且实现了经济效益。本发明的系统结构简单，占地面积小。
一种酸性刻蚀处理方法系统

[发明专利]一种精细线路刻蚀液-CN202011518116.6在审
发明人：刘维富 -专利权人：江西遂川光速电子有限公司
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： C23F1/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种精细线路刻蚀液，其组分包括30‑40％无机酸性液、20‑30％有机酸液、5‑10％缓冲刻蚀剂(BOE)、3‑10％铝刻蚀剂、5‑10％铜保护剂、2‑5％钼保护剂，该刻蚀液能够在进行刻蚀的同时，有效保护电路板上金属层内的铜、钼等关键性金属物质在刻蚀时免遭损坏，有效提高了电路板刻蚀的合格率。
一种精细线路刻蚀

[发明专利]从含有铜的酸性废液中除去回收铜的方法和装置以及含铜物的制造方法-CN200880124668.X有效
发明人：小林厚史;铃木利宏;佐藤香织;漥田叶子 -专利权人：荏原工程服务有限公司
申请日： 2008-08-28 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： C22B15/00 文献下载
摘要：本发明涉及对例如用氯化铜刻蚀液对铜印刷基板进行刻蚀时产生的刻蚀废液或者制造电解铜箔中的电镀液的更换废液等含有铜离子的酸性废液进行处理、从而将铜除去回收的方法及装置。本发明涉及从含有铜的酸性废液中除去回收铜的方法，其为在将含有铜的酸性废液和氧化剂的混合液注入到碱剂溶液中的同时，对混合液注入后的碱剂溶液的pH进行管理以使该pH在任一时点均不会降到7以下，从而获得以生成的氧化铜为主要成分的固态物
含有酸性废液除去回收方法装置以及含铜物制造

[实用新型]刻蚀喷管及刻蚀设备-CN201420858914.7有效
发明人：张田超 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2014-12-30 - 公布日： 2015-07-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种刻蚀喷管及刻蚀设备。刻蚀喷管包括喷管管道和固定在喷管管道一侧的喷嘴，喷管管道与喷嘴连通，刻蚀喷管还包括与喷嘴位于喷管管道同侧的导流件，导流件包括主体，主体的外表面为斜面，斜面上设有导流槽，导流槽与喷管管道的轴线之间有夹角，湿法刻蚀生产过程中，附着在湿法刻蚀喷管上的酸性大液滴会沿着主体的外表面滑至导流槽内，随后沿导流槽滑至与导流槽相连通的喷嘴上，继而随喷嘴喷射的刻蚀液喷洒出去。因此，与传统的湿法刻蚀喷管相比，本申请的安装有导流件的刻蚀喷管能够防止酸性大液滴掉落到基板上，保证了刻蚀均匀，产品良率高。此外，刻蚀设备包括上述的刻蚀喷管。
刻蚀喷管设备

[发明专利]正型光刻胶及制备方法、玻璃壳体的制备方法和电子设备-CN202110985128.8在审
发明人：敖玉银;张涛;邱惊龙;韩泽;詹建波;郑俊威 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：DDA0003229878410000011.JPG" imgContent="drawing" imgFormat="JPEG" orientation="portrait" inline="yes" />该正型光刻胶具有优异的耐酸性能、粘附性能和热稳定性，其能够在酸性刻蚀液刻蚀玻璃的过程中对玻璃无需进行刻蚀的表面进行保护，同时该正型光刻胶可以长时间稳定地处于酸性刻蚀液中，有利于玻璃表面刻蚀深度的加强，使得玻璃刻蚀效果更加明显。
光刻制备方法玻璃壳体电子设备

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